Установка металлизации керамики методом пароструйного осаждения

Установка металлизации керамики методом пароструйного осаждения

Установка предназначена для реализации метода пароструйного осаждения покрытий на керамические подложки размером 48х60 мм.

Метод пароструйного осаждения позволяет получать токопроводящие покрытия с высокой скоростью роста и не требует применения высоковакуумных систем откачки.
Внешний вид установки металлизации методом пароструйного осаждения
Вид установки со сторны шлюзовой камеры
Двухкоординатный стол системы перемещения и сканирования подложек
  1. Стандартный размер подложек 48x60 мм
  2. Высокая скорость металлизации без высоковакуммных средств откачки
  3. Нанесение покрытия на внутреннюю поверхность отверстий для создания электрического перехода между сторонами подложки
  4. Загрузка и выгрузка подложек через шлюзовую камеру без разгерметизации технологического объема
Технические требования
  • Откачная система на базе форвакуумного насоса и насоса Рутса
  • Три источника материала с непрерывной подачей проволоки в зону испарения
  • Газовая система с подачей инертного рабочего газа в источник для доставки материала к подложке

Технические характеристики установки:

  • рабочее давление: 10-3 мбар

  • количество обрабатываемых пластин: 20

  • количество позиций обработки: 3

  • габариты: 3300х1800х1800 мм

Основными узлами установки являются: два шлюза (загрузки и выгрузки изделий), которые через вакуумные затворы присоединены к технологической камере. Камера собрана из стандартных крестов — шестериков ISO250. Вся конструкция камеры закреплена на раме.

Внутри камеры вдоль её оси проходит конвейер, осуществляющий транспортировку и сканирование подложек, возможна установка механизма качания подложек.

На верхнем фланце камеры установлен источник материала.

На один из боковых фланцев устанавливается вакуумное окно для визуального контроля за процессом нанесения покрытий. Второй боковой фланец является резервным.

Установка рассчитана на использование трёх источников материала, что позволяет получать многослойные покрытия в едином вакуумном цикле.